这本书是一部关于半导体物理学发展的珍贵历史文献。它详细记录了从1948年晶体管的发明到1982年G.Binng等研究的硅MOS器件以及超高真空表面能谱分析技术的出现这一段重要时期内的科学进展。书中不仅涵盖了半导体物理理论的深刻阐述，如半导体有效质量理论、赝势概念的提出，还涉及了半导体器件技术的革新，例如集成电路的问世和半导体激光器的发明。此外，书中也讨论了半导体材料的应用，如大规模集成电路的产业化，以及半导体表面和界面物理的研究，如肖特基势垒的形成等。

对于渴望深入了解半导体科学和技术的读者来说，这本书无疑是一部不可多得的宝库。它不仅提供了半导体物理研究的历史背景，而且详细介绍了这一领域的理论突破和技术革新。无论您是物理专业的学者、工程师，还是对此领域感兴趣的普通读者，这本书都将为您展现一个丰富多彩的半导体世界，并启发您对未来的科技发展充满期待。

阅读这本书，您将能够感受到科学家们在探索半导体世界过程中的智慧和坚持，以及他们对推动科技进步的热情。每一项发明和理论的提出都不是偶然，而是无数次实验和思考的结果。这本书不仅向我们展示了半导体的过去，也为我们揭示了未来的可能性和挑战。

总之，这是一本深入浅出、内容丰富、资料详实的书籍，它不仅记录了半导体科学技术的历史，也为未来的研究和发展提供了宝贵的参考。我强烈推荐这本书给所有对半导体物理学感兴趣的读者。